蚀刻是电子行业重要工艺，蚀刻所用气体称蚀刻气体, 一般多为氟化物气体, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。

作为新一代环保电子气体，电子级C4F6成为集成电路IC芯片等制造时必不可少的刻蚀气体，其GWP值简直为0，而且能结束纳米级沟槽的加工，成为电子工业领域内一把奇特的“刻刀”，比γ刀还γ！

2015年，浙化院特种气体研发团队提出自主开发新一代含氟电子气体C4F6的提纯技能。

今日纽小编就带大家一同看看C4F6是怎样提纯的呢？

在查阅了许多资料，了解了含氟二烯烃C4F6物化性质后，项目组开始测验C4F6提纯研讨。项目组首先探究了C4F6分子价键与电子云密度散布，计算了C4F6及其有机杂质分子特性，接着搜集重要数据，进行软件模仿。总算，在经过对C4F6及其杂质物性深入研讨分析后，项目组提出了立异的提纯方法。

随着项目任务的不断推进，困难也层出不穷。

其一，在原料杂质的分析定性问题上，因为新化合物没有标准谱图，技能人员与分析专家一同揣摩，寻找其中的不同，总算判定首要杂质，为实验展开扫清了阻碍。

其二，C4F6是含氟烯烃，有机杂质与产品结构附近，分别难度大。为了强占该难题，项目组屡次安排专题讨论会，张建君总经理进行详尽的技能指导，从C4F6自身物化性质到纯化工艺操作，具体分析并修改相应的实验方案。

其三，针对有机杂质分别难度大的问题，项目组进行了许多的验证实验，调查并重复优化了上百个配方，常常工作到深夜，最终选出了适用的高效吸附剂。

一同，在阅历实验室改造场所受限、设备提纯功能下降等一系列突发状况下，项目组仍不断调整设备参数、完善提纯工艺，结束了既定的C4F6提纯技能开发任务，并进行了电子级C4F6样品生产。C4F6是一个附加值高，商业远景宽广的新品，国内不少同行都对其展开了研讨。
 
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