电子产品由半导体器件（电容器、二极管和晶体管）构建而成，最新的电脑芯片的生产步骤超过 1000 步，拥有 100 多亿个晶体管，所有晶体管通过纳米级电线依照错综复杂的 3D 设计连接在一起。这些产品的制造采用最简单的积木式工艺，大部分产品会采用氟气、氯气、氩气、氖气、氙气等气体材料进行构造和塑形。 

光刻就是塑造器件形状的过程，且对于实现微芯片的小型化至关重要。被称为扫描仪的光刻机就如同一台幻灯片投影仪：它从光源获取光，以便将刻蚀在玻璃件上母模图像传输至覆有光敏化学胶片的衬底上。该图像就是形成微芯片的微小电路的图样。然后，利用湿化学法冲洗图样，并去除化学胶片上曝光或未曝光的部分。 

重要的是，常用于图像光刻的光源是以气相激光为基础，采用少量的氟气、氯气、氯化氢、氩气以及混合大量氖气为平衡气的氙气。光刻是氖气应用最多的工艺。二氧化碳也作为加工辅助剂用于减少图像中的缺陷。一种全新的光刻法将采用一种激发态的锡蒸汽来产生光。但由于锡会沉积在成本高昂的光学元件上，所以会使用大量的氢气与锡反应，以将锡以氢化锡 (SnH4) 的形式通过真空系统移除。